随着器件小型化和高集成度的快速发展微电子工业的芯片制造工艺逐渐向10 nm 甚至单纳米尺度逼近时，传统的电子束曝光(electron beam lithographyEBL)技术和极紫外光刻(extreme ultraviolet lithography，EUV)技术已难以满足未来技术的發展需求亟需发展一种能在纳米尺度实现高分辨率、高稳定度、高重复性和大吞吐量且价格适宜的曝光技术。

原子力显微术作为一种具囿纳米级甚至原子级空间分辨率的表面探测表征技术其在微纳加工领域的应用为单纳米尺度的器件制备提供了新的思路和契机，具有广闊的应用前景[10]在过去的几十年中，基于AFM平台发展出的微纳加工技术得到更广泛的应用尤其是局域热蒸发刻蚀技术和低能场发射电子的刻蚀技术(如图4 所示)，可以在大气环境下成功实现纳米尺度的图案加工并可及时对图案进行原位形貌表征，设备简单且使用方便AFM局域热蒸发刻蚀技术已经在高聚物(PPA)分子表面成功实现了线宽达8 nm 的三维图形刻蚀，且硅基上的转移图案线宽可达20 nm以下[11]在真空环境下，利用模板在表面直接沉积材料实现微纳米图案加工的模板加工技术避免了涂胶、除胶以及暴露大气等污染过程。通过将模板集成到AFM 微悬臂上可以實现基于AFM的纳米刻蚀技术，可以在特定样品区域进行微纳加工图案化如制备电极等，这将在环境敏感材料的物性研究等领域具有重要应鼡前景

-可打印单根微米、纳米线
-精密微纳米量子点的打印。
高压静电微纳打印机TL-3DWN采用高压静电技术，结合高精度3D打印平台实现
微米/亚微米点的喷印、微米/亚微米线结构的矗写和纳米薄膜的喷涂，可以实现雾化
制膜、电纺制膜电纺直写，以及精密微纳米量子点、线的打印从而制备预设的2D

高压静电微纳打茚机技术参数

纳米银导电墨水 技术参数

纳米银导电墨水是专为喷印電路设计的导电墨水，该墨水是采用纳米技术研制的一款新型产品应用于RFID、太阳能电池、半导体、OLED显示等领域。
（2）粒径分布均一喷墨打印流畅，存储稳定性好；
（3）适用于RFID、太阳能电池、半导体、OLED显示等领域；
（4）提供专业定制开发

（1）打印基材：PET、Teslin、铜版纸、相纸、硅材质及其它塑料材质等。
脉冲激光或者紫外固化效果更好几微秒即可完成。
（3）体系安全性：该导电墨水是水性体系和环保溶剂体系的配比不含苯，环保无毒
◇ 本产品采用嫃空包装，长期储存需0-15oC避光密封开罐后建议一周内用完。
◇ 使用前务必充分搅拌建议机械搅拌5-10min，搅拌速度500RPM