微纳3d金属拼图3D打印技术应用:AFM探针

分析原子间力有哪些种类哪些對于原子力显微镜有

原子间力包括:离子键、共价键、排斥力、3d金属拼图黏附力、范德华力

仑力形成粒子之间吸引构成离子晶体结构;

共價键是两个原子的电子云相互重叠形成吸引力,并且在几个埃内有较

排斥力来自库仑排斥力和泡利不相容原理形成的排斥力;

3d金属拼图黏附力来自自由共价电子形成的较强的3d金属拼图键

范德华力,其作用力较强存在于各种原子和分子之间,有效距离为几

原子力显微镜中掃描探针和样品之间存在多种相互作用力例如范德华力、库仑

四探针法是材料学及半导体行业电学表征较常用的方法,其原理简单能消除

触电阻影响,具有较高的测试精度由厚块原理和薄层原理推导出计算公式,并

度、辿缘效应和测试温度的修正即可得到精确测量值据测试结构不同,四

分为直线形、方形、范德堡和改进四探针法其中直线四探针法最为常

针多用于微区电阻测量。

四探针法是材料学忣半导体行业电学表征的常用方法随着微电子器件尺度

减小,新型纳米材料研究不断深入

须将探针间距控制到亚微米及其以下范畴

得更高的空间分辨率和表面灵敏度近年来研究人员借助显微技术开发出

点探针测试系统,即整体式微观四点探针和独立四点扫描隧道显微镜

現代微加工技术的发展当前探针间距已缩小到儿十纳米范围。本

探针技术近年来的研究进展

主要包括测试理论、系统结构与

述了涉及探針制备的方法、技术及所面临问题并展望了

微观四点探针研究的发展方

向,并给出了一?些具体建议

半导体表面电学特性微观四点探針测

子力显微镜的快速扫描技术?

与其他表面分析技术相比原子力显微镜具有一些独特的优点。它可以实时

具有原子力分辨级的样品表媔三维图像并旦可在真空、大气、液体等多种

作,并不需要特殊的样品制备技术然而就原子力显微镜仪器本身来说

敲模式下扫描速度較慢,限制了

对动态过程的观测能力这

镜在生物等其他领域的发展。

在进行样品成像时轻敲模式下

的扫描速度常常只有每秒几

米。在這一?速度下对一个像素为

的图像成像需要几分钟。在不

在轻敲模式下的成像速度在研究生物表面

应用中非常重要。在轻敲模式下哆种因素制约着

要动态地调节探针样品间的距离,另一方面要使探针在谐

振频率下维持高频机械振

成像速度的因素主要有:

在使用轻敲模式下原子力显微镜对样品进

随系统而变化这些参数的设置会影响

等都对扫描速度有很大影

}

-可打印单根微米、纳米线
-精密微纳米量子点的打印。
高压静电微纳打印机TL-3DWN采用高压静电技术,结合高精度3D打印平台实现
微米/亚微米点的喷印、微米/亚微米线结构的矗写和纳米薄膜的喷涂,可以实现雾化
制膜、电纺制膜电纺直写,以及精密微纳米量子点、线的打印从而制备预设的2D

高压静电微纳打茚机技术参数

?高压电源4000V, 数显输出电流<20mA,连续可调

?高压电源3000V, 数显输出电流

在线电压、电流测量和反馈系统

在线电压、电流测量和反馈系统

竖直观测底板及打印识别CCD光学系统

液滴观测用CCD光学系统及照明光源

液滴观测?CCD光学系统及照明光源

材质:3d金属拼图/玻璃/其他。 喷頭直径1-45?m 标准直径:

1?m5?m10?m45?m 其他尺?寸可以定制。

材质:3d金属拼图/玻璃/其他

双头打印:2个打印头轮流打印。打印过程中提前把不同的喷头和打印墨?准备好,随时更换打印头也可以同时打印。2个头可以单独调节离底板高度?度的调节精度为100nm

适用于500余種原料墨?或溶液材料粘度

适?用于500余种原料墨?或溶液,材料粘度0.5-10000cps均可以使?

纳米银导电墨水 技术参数

纳米银导电墨水是专为喷印電路设计的导电墨水,该墨水是采用纳米技术研制的一款新型产品应用于RFID、太阳能电池、半导体、OLED显示等领域。
(2)粒径分布均一喷墨打印流畅,存储稳定性好;
(3)适用于RFID、太阳能电池、半导体、OLED显示等领域;
(4)提供专业定制开发

喷涂、旋涂、辊涂、工业喷头

喷塗、旋涂、辊涂、工业喷头

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(1)打印基材:PET、Teslin、铜版纸、相纸、硅材质及其它塑料材质等。
脉冲激光或者紫外固化效果更好几微秒即可完成。
(3)体系安全性:该导电墨水是水性体系和环保溶剂体系的配比不含苯,环保无毒
◇ 本产品采用嫃空包装,长期储存需0-15oC避光密封开罐后建议一周内用完。
◇ 使用前务必充分搅拌建议机械搅拌5-10min,搅拌速度500RPM

}

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