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a-SiO_x∶H/a-SiO_y∶H多层薄膜微结构的退火行为
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采用 PECVD技术在 P型硅衬底上制备了 a- Si Ox∶ H/a- Si Oy∶ H多层薄膜 ,利用 AES和 TEM技术研究了这种薄膜微结构的退火行为 .结果表明 :a- Si Ox∶ H/a- Si Oy∶ H多层薄膜经退火处理形成 nc- Si/Si O2 多层量子点复合膜 ,膜层具有清晰完整的结构界面 .纳米硅嵌埋颗粒呈多晶结构 ,颗粒大小随退火温度升高而增大 .在一定的实验条件下 ,样品在 650℃下退火可形成尺寸大小合适的纳米硅颗粒 .初步分析了这种多层复合膜形成的机理
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Live SupportAsk us anything氨碱法碳化塔的工艺解剖(Ⅱ)——塔的效率及其計算方法--《河南师范大学学报(自然科学版)》1962年04期
氨碱法碳化塔的工艺解剖(Ⅱ)——塔的效率及其計算方法
【摘要】：正 碳化塔的结构特点在于,其上半部为笠帽圈,下半部又增加了冷箱,而其中液体为连续相,气体固体为分散相,而晶体出现又仅在中部及下部。因此,在这如此复杂的系统和结构中,常常使人感到分析解剖上的困难。从而,进一步为设计寻找门经与评论一个塔的好坏,更是感到无从下手。生产上設計上对此种特型设备,一直是采用凭经验估尺寸按实际能力摸索扩大或缩小,以致寻求逐个塔圈中的物质传递,以及设备的阻力、
【关键词】：
【正文快照】：
碳化塔的拮构特点在于,其上半部为笠帽圈,下半部又增加〕冷后,而其中液体为翅祯相,气体固体为分散相,而晶体出现又仅在中部及下部。因此,在.这如此复杂的系抗和箱构中,常常便人咸到分析解剖上的困难。.从而,进一步为投针导找四便与葬睑一个塔的好坏,更是成到无从下手。生产上
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