光（电磁波）是横波还是纵波答案：横波

光程：折射率与光实际路程的乘积。

光的偏振态线偏振光、圆偏振光、椭圆偏振光、自然光、部分偏振光。

从自然光中获得線偏振光的方法：一般有四种：

二向色性：某些各向异性的晶体对不同振动方向的偏振光有不同的吸收系数的性质

利用二向色性获得偏振光的器件称为偏振片

当入射光的入射角等于布儒斯等角时，反射光成为线偏振光（仅有

菲涅尔公式：关于入射波、反射波、折射波电场嘚振幅之间的关系

消光比：最小透射光强与两偏振器透光轴互相平行时的最大透射光强之比称为消光比，

它是衡量偏振器件质量的重要參数

电矢量垂直入射面的分量称为

分量；电矢量平行入射面的分量称为

非相干光学系统是光强的线性系统；相干光学系统是复振幅的线性系统。非相干光波的

波的干涉：因波的迭加而引起强度重新分布的现象叫做波的干涉。

产生干涉的必要条件（也叫相干条件）：

）存茬相互平行的振动分量；

电磁波在真空镀薄膜中的速度与在介质中的速度之比称为绝对折射率

尽管两种介质的分界面上电磁场量整个的昰不连续的，但在界面上没有自由电荷和面

为了研究真空镀薄膜和实际使用方便根据各压强范围内不同的物理特点，把真空镀薄膜划分为

真空镀薄膜条件下分子的平均自由程可以与容器尺寸相比拟。

真空镀薄膜计种类很多通常按测量原理可分为

化学气相反应沉积的反应器的设计类型可分为

导电的基片上沉积金属和合金，薄膜材料在电解液中昰以

的形式存在制备有序单分子膜的方法是

不加任何电场，直接通过化学反应而实现薄膜沉积的方法叫

物理气相沉积过程的三个阶段：從材料源中发射出粒子粒子运输到基片和

在基片上凝聚、成核、长大、成膜

溅射过程中所选择的工作区域是

和基板之间的距离至少应是

磁控溅射具有两大特点是

可以在较低压强下得到较高的沉积率

基片温度下获得高质量薄膜

在离子镀成膜过程中，同时存在

过后者时才能發生薄膜的沉积。

薄膜的形成过程一般分为：

原子聚集理论中最小稳定核的结合能是以

薄膜成核生长阶段的高聚集来源于：

这些结论假設凝聚系数为常数，基片具有原子级别的平滑

在薄膜中存在的四种典型的缺陷为：

列举四种薄膜组分分析的方法：

红外吸收是由引起偶极矩变化的分子振动产生的而拉曼散射则是由引起极化率

变化的分子振动产生的。由于作用的方式不同对于具有对称中心的分子振动，

敏感；相反对于具有反对称中心的分子振动，红外

对于对称性高的分子振动

是测量薄膜样品中分子振动的振动谱，前者

表征溅射特性嘚主要参数有

什么叫真空镀薄膜写出真空镀薄膜区域的划分及对应的真空镀薄膜度。

真空镀薄膜一种不存在任何物质的空间状态，是┅种物理现象

气体在固体表面吸附滞留为主