铝硅合金价格 高纯铝硅合金靶材_北京冠金利新材料科技有限公司_中科商务网
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陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4，氮化铝靶AIN，氮化硼靶BN，氮化铬靶CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2，二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiB2，二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镧靶LaTiO3，&钛酸镨靶PrTiO3，钛酸锶SrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶，氧化铪靶HfO2。
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联系人：刘元兵 先生 (联系时请说明是在中科商务网上看到的)
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地址：北京市昌平区北清路中关村生命科学园3号研发楼2-206
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【求助】金币悬赏：SrRuO3靶材在哪里购买？谢谢！
请问，有没有人知道SrRuO3靶材在哪里购买，我在网上找了好久没有找到。
额。。。这个，要联系国内的几个靶场，军工的，在网上怎么找得到呢 貌似前几天同学做过这个靶。。。。。。。。 哦，你需要的是钌酸锶靶材，你可以试试下面几个厂家。
1.珠海市邦杰光电科技有限公司
地址:珠海市香洲区银桦路94号A8
联系人:陈江
2.北京汇方圆科技有限公司：
是一家以金属材料机加工为主导同时经营有色金属材料的高新技术企业。公司本着“科技是第一生产力”的生产理念，陪养了一批有着丰富机加工经验和材料领域专业化知识的人才，同时密切关注世界新材料行业的最新动向，与国内外多家高端科研机构和国内大型加工厂紧密合作，更有效地保证了产品的推陈出新，不断升级，走在国际行业的最前沿。目前公司凭借多年的经验正以优质的产品、系统的服务、严格的科学管理模式，为客户提供更高水平的材料，同时能给您以同行业内更优惠的价格和更优秀的服务。
公司主要的产品有：
1单质靶材：硼靶材,碳靶材,镁靶材,
铝靶材,硅靶材,钪靶材,
钛靶材,钒靶材,铬靶材,
锰靶材,铁靶材,钴靶材,
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铽靶材,镝靶材,钬靶材,铒靶材,铥靶材,镱靶材,镥靶材.
2陶瓷靶材：氧化锌靶材,氧化锌铝靶材,氧化铝靶材,
氧化锑靶材,氧化锑掺锡靶材,钛酸钡靶材,
钛酸锶靶材,钛酸锶钡靶材,铁酸镥靶材,
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碳化四硼靶材,碳化硅陶瓷靶材,碳化钛靶材,
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3合金靶材：锌铝靶材,
铝铜靶材,铝镁靶材,铝硅靶材,
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铁碳靶材,铁锰靶材,铱锰靶材,
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钛铬靶材,钨铼靶材,钨钛靶材,
锆铝靶材,锆钛靶材,锆钇靶材,锌镁靶材,铜铟镓硒靶材,铜铟靶材,
铜铟镓靶材,锑铟靶材,锗碲靶材,锗锑碲靶材. 北京瑞发致远科技有限责任公司
公司电话：86-10-
王磊：86-10-
王磊：86-10-
地址：北京市丰台区岳各庄桥北乙45号恒昌商务楼307室
北京瑞发致远科技有限责任公司是一家专门从事材料和设备的研发生产与销售、物质结构性能测试和提供技术支持的高新技术企业。公司拥有一支由多名教授（兼职）、副教授和高级工程师为主体的研发、生产与销售队伍，并同中国科学院高能所、金属所、物理所、北京大学、北京师范大学、中国科学技术大学等单位进行密切合作，执着探索、不断进取，以求科研成果和企业生产实现良好的结合。在材料和设备服务方面，北京瑞发致远科技有限责任公司重视产品在具体应用领域的深入研究，齐集大家的智慧、通过我们的努力，为客户度身定制产品，从而使我们的产品在最大程度上满足客户的使用要求，使我们的客户在使用我们的产品时，用得放心、用得顺心、用得省心。 在物质结构性能测试方面，北京瑞发致远科技有限责任公司秉承“立足测试，科技指导，科学生产”的思想，和许多科研院所及高校的分析测试中心合作，为科研和企业单位提供物质结构性能测试及数据分析服务，由此发现测试样品的结构和性能的关系，指导科研样品的合成，为企业改进样品的质量提供结构性能依据。 北京瑞发致远科技有限责任公司也努力建立一个科研企业平台，搭建企业和科研单位之间的桥梁，使科研单位的科研成果和研究人员的理论、实验和企业的生产相结合。使拥有某项技术或者在某一方面具有专长（如测试技术、材料制备等等）的科学工作者能够在企业的舞台上一展所长。同时，也为一些生产企业寻找技术人员进行合作，为企业提供产品结构性能测试、材料性能改进、开发新产品等服务，使企业的生产在科学理论的指导下高效进行。 目前，国内的SRO靶，我们用故两个公司的，都还可以
一个是合肥科晶
另一个是北京泛德辰 我们用的中诺新材的，还行，你可以试试:hand: 我们实验室也用这个，我宁波材料所的同学推荐的中诺新材的，用着还可以 : Originally posted by vickiazhang at
我们实验室也用这个，我宁波材料所的同学推荐的中诺新材的，用着还可以 他们的相对密度能做到多少？ 北京兴元海普科技发展有限公司，老板是主要研究靶材的制备，很多靶材都可以制备。像这种钌靶之前我们就是在他们那买的，还不错。你可以咨询他们，因为他们是生产商不是中间商，所以价格比一般的要便宜些。这是联系电话：010-
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E-mail： & QQ：8835100[供应] 镍铝靶材 镍铬靶材 镍铬硅靶材 镍铁靶材
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我公司专业生产靶材的生产工艺：通过金属熔炼，粉末冶金，非金属粉末方法运用真空熔炼，普通热压，冷压烧结等方法成型，通过锻造，热轧或冷轧，再经过热处理消除型材应力并使之均质化或通过高温烧结增加其致密性，然后再对处理过的型材进行车，铣，刨，磨等机加工过程，再清洗，烘干，完成最终产品。有时根据需要对某些靶材地面金属化后进行与无氧铜背板的绑定。最后经过超声波或者X光等检测，包装，出厂。靶材种类：金属靶材，陶瓷靶材，合金靶材。
半导体关联靶材：
电极、布线薄膜：铝靶材，铜靶材，金靶材，银靶材，钯靶材，铂靶材，铝硅合金靶材，铝硅铜合金靶材等，
储存器电极薄膜：钼靶材，钨靶材，钛靶材等
粘附薄膜：钨靶材，钛靶材等
电容器绝缘膜薄膜：锆钛酸铅靶材等
磁记录靶材：
垂直磁记录薄膜：钴铬合金靶材等
硬盘用薄膜：钴铬钽合金靶材，钴铬铂合金靶材，钴铬钽铂合金靶材等
薄膜磁头：钴钽铬合金靶材，钴铬锆合金靶材等
人工晶体薄膜：钴铂合金靶材，钴钯合金靶材等
光记录靶材：
相变光盘记录薄膜：硒化碲靶材，硒化锑靶材，锗锑碲合金靶材，锗碲合金靶材等
磁光盘记录薄膜：镝铁钴合金靶材，铽镝铁合金靶材，铽铁钴合金靶材，氧化铝靶材，氧化镁靶材，氮化硅靶材等
光盘反射薄膜：铝靶材，铝钛合金靶材，铝铬合金靶材，金靶材，金合金靶材等
光盘保护薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化锌靶材等
显示靶材：
透明导电薄膜：氧化铟锡靶材，氧化锌铝靶材等
电极布线薄膜：钼靶材，钨靶材，钛靶材，钽靶材，铬靶材，铝靶材，铝钛合金靶材，铝钽合金靶材等
电致发光薄膜：硫化锌掺锰靶材，硫化锌掺铽靶材，硫化钙掺铕靶材，氧化钇靶材，氧化钽靶材，钛酸钡靶材等
其他应用靶材：
装饰薄膜：钛靶材，锆靶材，铬靶材，钛铝合金靶材，不锈钢靶材等
低电阻薄膜：镍铬合金合金靶材，镍铬铝合金靶材，镍铜合金靶材等
超导薄膜：钇钡铜氧靶材，铋锶钙铜靶材，镍铬硅氧靶材等
工具镀薄膜：氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，铬靶材，钛靶材，钛铝合金靶材，锆靶材，石墨靶材等
我公司生产的圆形靶材直径25-250mm；矩形靶材最长1500mm其他参数可根据用户的要求进行加工。我们的愿望就是给客户最高的产品质量，最优的产品的价格，最满意的服务。真诚期待与您的合作，我们会以实际行动来兑现对您的承诺：为您提供您所需的最优质的新材料，在长期合作中实现共赢，携手共创伟业。
磁控溅射原理：
磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下，在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞，使其电离产生出Ar 和新的电子；新电子飞向基片，Ar 在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射。在溅射粒子中，中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜，而产生的二次电子会受到电场和磁场作用，产生E（电场）×B（磁场）所指的方向漂移，简称E×B漂移，其运动轨迹近似于一条摆线。若为环形磁场，则电子就以近似摆线形式在靶表面做圆周运动，它们的运动路径不仅很长，而且被束缚在靠近靶表面的等离子体区域内，并且在该区域中电离出大量的Ar 来轰击靶材，从而实现了高的沉积速率。随着碰撞次数的增加，二次电子的能量消耗殆尽，逐渐远离靶表面，并在电场E的作用下最终沉积在基片上。由于该电子的能量很低，传递给基片的能量很小，致使基片温升较低。
　　磁控溅射是入射粒子和靶的碰撞过程。入射粒子在靶中经历复杂的散射过程，和靶原子碰撞，把部分动量传给靶原子，此靶原子又和其他靶原子碰撞，形成级联过程。在这种级联过程中某些表面附近的靶原子获得向外运动的足够动量，离开靶被溅射出来。
　　磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击氩气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。
　　靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。磁控阴极按照磁场位形分布不同，大致可分为平衡态和非平衡磁控阴极。平衡态磁控阴极内外磁钢的磁通量大致相等，两极磁力线闭合于靶面，很好地将电子/等离子体约束在靶面附近，增加碰撞几率，提高了离化效率，因而在较低的工作气压和电压下就能起辉并维持辉光放电，靶材利用率相对较高，但由于电子沿磁力线运动主要闭合于靶面，基片区域所受离子轰击较小.非平衡磁控溅射技术概念，即让磁控阴极外磁极磁通大于内磁极，两极磁力线在靶面不完全闭合，部分磁力线可沿靶的边缘延伸到基片区域，从而部分电子可以沿着磁力线扩展到基片，增加基片区域的等离子体密度和气体电离率.不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。
　　用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件/真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入氩气和反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。
　　磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。德国莱宝发明的孪生靶源技术，很好的解决了这个问题。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。
　　冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。
　　可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法。
　　磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。目前没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道，而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶，即靶材与磁体之间无相对运动且靶材直接与冷却水接触的靶， 靶材利用率( 最大值) 数据多在20%~30%左右(间冷靶相对要高一些，但其被刻蚀过程与直冷
靶相同，不作专门讨论)，且多为估计值。为了提高靶材利用率，研究出来了不同形式的动态靶，其中以旋转磁场圆柱靶最著名且在工业上被广泛应用，据称这种靶材的利用率最高可超过70%，但缺少足够数据或理论证明。常见的磁控溅射靶材从几何形状上看有三种类型：矩形平面、圆形平面和圆柱管
　　如何提高利用率是真空磁控溅射镀膜行业的重点,圆柱管靶利用高,但在有些产业是不适用的,如何提高靶材利用,请到此一看的朋友,在下面留下你的见解,提供好的方法
圆形磁控溅射靶
　　圆形磁控溅射靶 圆形磁控溅射靶直径范围为：50～250mm；靶结构材料选取适合高真空的优质不锈钢和铜合金材料；磁场源采用稳定性最高的稀土钐钴永磁材料；磁场采用模块化排布并进行优化设计，有效地提高靶材利用率和设备稳定性；冷却水循环量为1L/min，能有效的保证设备的冷却效果；根据不同设备可以配置不同角度的安装头；采用Φ20不锈钢导管，复合法兰进行安装，适用于高真空高纯度镀膜。另外其他特殊性能可根据客户需要进行设计。 圆形磁控溅射靶应用领域：直径50～150mm靶主要应用于大专院校与科研院所研究性磁控溅射镀膜设备使用；直径150mm以上靶为生产型磁控溅射镀膜设备采用
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公司规模：1500
成立年份：
经营模式：生产型
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广州市番禺区南村东顺工业园
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高音速电弧喷涂设备技术特点
本公司生产的最新超音速电弧机设备制造精良，性能可靠，运行稳定性好，为获得性能优良的喷涂层提供了最基本的保障.应用于...
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SX-5000型（燃气）超音速火焰喷涂设备
SX- JP5000型（燃航空油）超音速火焰喷涂设备
超音速火焰喷涂设备技术特点
&#8226;热喷涂快速制模&#...
等离子喷靶材铬靶、钛靶、硅铝靶设备
供应生产线--镀膜靶材喷涂及先进的制造设备技术
生产线---镀膜靶材喷涂及制造设备技术特点：
应用于玻璃镀膜（...
等离子喷靶材铬靶、钛靶、硅铝靶设备
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