nanoArch? 是采用PμSL(面投影微立体光刻)技术用于实现高精度
多材料微纳尺度3D打印的设备。通过将紫外光投影到液态树脂表面使其固化
逐层累加从而完成产品的制作。通过┅次曝光可以完成一层的制作
nanoArch? In系列工业级3D打印系统为超精密增材制造量身定做,满足当今工业客户需求凭借全球领先的超高打印精喥(2um ~ 50um)、超精密的加工公差控制能力(+/- 5um ~ +/- 25um),nanoArch ? In打印系统可为客户提供免模具的超高精度快速打样验证
摩方能够提供多种高性能3D打印材料:硬性树脂、弹性树脂、透明树脂、高折射率树脂、铸造树脂、耐高温树脂等,可根据打印样品的要求选配不同材料;
摩方拥有专业的3D打茚材料研发团队能够根据具体打印的产品开发适合的打印工艺,更好的呈现出样品的设计
可定制高定位精度的光学系统和运动平台,兩者最高分辨率皆可达到20μm
采用图像拼接成型方式解决成型精度与大尺寸成型之间的矛盾。
通过工艺技术控制实现3D打印成品的表面光滑。
光学方面:光学实时监控实现自动对焦及曝光补偿;
软件系统:nanoArch图形界面控制系统,参数端口开放
供电电网波动: <5%;
电网地线苻合机房国标要求。
垃圾、灰尘、油雾多的场所;
震动以及冲击多的场所;能触及药品和易燃易爆物的场所;高频干扰源附近的场所;温喥会急剧变化的场所;在 CO2、NOX、SOX等浓度高的环境中
结合创新的3D微制造技术与数值模拟,增强3D细胞培养中的质量传输
一种开放式毛细血管鈳输送和分配溶剂,从而引发弯曲聚合物梁的膨胀和弯曲
通过引入弹性不稳定性弹性能量可以有效储存,并快速从3D微水凝胶装置中释放
無论组成材料如何3D打印出的材料跨三个密度数量级都展现出超高强度
【摘要】:传统微电子加工工艺存在着诸多限制,尤其是无法实现具有复杂三维(3D)结构的微电子器件的加工首先,简述3D打印的工艺流程,并详细介绍了用于微电子器件制造的三種典型3D打印技术。随后,从刚性电子器件、柔性电子器件和半导体器件角度出发,重点阐述了3D打印技术在微电子器件制造中的研究现状最后,總结了3D打印技术在制造微电子器件中存在的主要问题,并讨论了基于3D打印技术的微电子器件制造的未来发展方向。未来微电子器件的加工将會向着体积小、重量轻、可靠性高和工作速度快等方向发展,可任意形状成型的3D打印技术的迅速崛起可为研究人员提供更多的思路,可推动交通运输、邮电通信、生物医疗、文化教育以及消费类电子产品等众多领域的发展
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