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什么板材符合以下2个条件： 1.不导电； 2.机加工不变形（能保证一定的精度，平面度）。
谢谢，但尼机械加工也会变形请问谁能帮我推荐一个比较合适的材料呢，但不是很满意；我考虑用尼龙，因为它会有翘曲我用过有机玻璃
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（主要用于加工过锡炉载具。） ingun板（主要用于加工针床针板 ） ，机加不变形不导电。合成石首选，激光焊治具
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出门在外也不愁[供应] 镀膜设备未来的发展是怎么样的？
&发布日期：&
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公司简介：深圳市鑫正亮科技有限公司主营抛光拉丝电镀等五金表面处理加工。公司目前有抛光厂，电镀一厂，电镀二厂。抛光厂负责五金抛光拉丝喷砂等工艺，电镀厂负责
五金产品的滚挂镀，化学镀，真空镀，主要有镀镍，铬，锡，锌，铜，金，银，枪色，黑色，银色，金色等工艺，加工全程环保，符合欧盟RoHs标准。
　　鑫正亮科技真诚期待与您的合作
　　公司名：深圳市鑫正亮科技有限公司
　　联系人：付先生
　　电话：6
　　手机：
　　地址：深圳市沙井上南路123号汉联达工业园 福永塘尾工业区 松岗沙浦沙工业区
　　网址：www.
　　一体化多功能成为真空镀膜设备发展方向简析
　　随着市场多元化的不断需求，对于很多企业来说需要根据其产品的工序购置不同的机器设备，拿真空镀膜行业来说，如果一台机器就能完成从镀膜前处理到镀膜后处理，中间不需要人工干预不需要转换工序，那么无疑是企业的香饽饽，在单设备上实现一体化多功能成为了镀膜设备行业企业的共同需求。
　　随着科技的不断创新和发展，高度集成成为了许多行业的发展趋势，真空镀膜设备行业更是如此，随着真空技术的发展、真空镀膜的高性价比以及传统电镀对环境的污染迫使真空镀膜成为了主流，在近十几年来，我国的真空镀膜设备因企业的大量需求而迅速发展。随着科技和经济的提升，各种类型各种镀膜工艺的真空镀膜设备在不断的增加，其功能也越来越完善。
　　真空镀膜设备普遍应用于工业生产，无论是小产品还是大产品、金属制品还是塑胶制品、亦或者陶瓷、芯片、电路板、玻璃等产品，基本上所有需要进行表面处理镀膜的都需要用到。在镀膜方式上，比较普遍的是采用蒸发镀或者磁控溅射镀或者离子镀，在控制技术上，更多的应用先进的计算机技术和微电子技术，使得真空镀膜设备更具高效性和智能自动化。
　　不导电（NCVM）镀膜设备NCVM又称不连续镀膜技术或不导电电镀技术，是一种起缘普通真空电镀的高新技术。真空电镀，简称 vm， 是vacuum metalization的缩写。它是指金属材料在真空条件下，运用化学和物理等特定手段进行有机转换，使金属转换成粒子，沉积或吸附在塑胶材料的表面，形成膜，也就是我们所谓的镀膜。真空不导电电镀，又称 ncvm，是英文Non conductive vacuum metalization的缩写。它的加工工艺高于普通真空电镀， 其加工制程比普通制程要复杂得多。
　　进口不导电（NCVM）镀膜设备应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜（NCVM）。大功率蒸发系统，可控硅控制，重复性、稳定性高,独有镀透电极设计，配置石英晶振，可控制任何膜层厚度,拥有专利的工件架技术，转速平稳可调，产量大且良品率高。
　　NCVM是采用镀出金属及尽缘化合物等薄膜，利用相互不连续之特性， 得到终极外观有金属质感且不影响到无线通讯传输之效果。首先要实现不导电，满足无线通讯产品的正常使用；其次要保证“金属质感”这一重要的外观要求；最后通过 ＵＶ涂料与镀膜层结合，终极保证产品的物性和耐候性，满足客户需求。NCVM可应用于各种塑料材料，如 PC、PC+ABS ABS、PMMA、NYLON、工程塑料等，它更符合制作工艺的绿色环保要求， 是无铬 （Non-Chrome）电镀制品的替换技术，适用于所有需要表面处理的塑料类产品，特别适用于有讯号收发的３Ｃ产品，尤其是在天线盖四周区域，如 Mobile-phone、PDA、Smart Phone 、GPS 卫星导航、蓝牙耳机等。
　　美国野马真空公司所制造的不导电膜镀膜设备是新技术、新产品、新工艺层出不穷，其产品价值高，市场潜力大，盈利空间大，将逐步替换传统电镀产业而成为主流的塑料类产品表面处理技术， 将为企业和社会带来明显的经济效益和社会效益。
　　蒸发镀膜设备运行与维护。 蒸发镀膜设备工作方式就是置待镀材料和被镀基板于真空室内，采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发、升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺.
　　在真空条件下成膜可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。
　　通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与基板距离较远和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低。
　　蒸发镀膜设备
　　1. 关闭泵加热系统，然后分离蒸镀室（主要清洁灰尘，于蒸镀残渣）
　　2. 关闭电源或程序打入维护状态。真空蒸发镀膜机
　　3. 清洁卷绕系统（几个滚轴，方阻探头，光密度测量器）
　　4. 清洁中罩室（面板四周）。溅控溅射镀膜机
　　5. 泵系统冷却后打开清洁（注意千万不能掉入杂物，检查泵油使用时间与量计做出更换或添加处理）
　　6. 检查重冷与电气柜设备。立式单开门镀膜设备
　　谈谈真空镀膜设备行业现状及发展趋势
　　真空镀铝及铝令金的成分及热咎理状套对所生成的阳极氧化膜的外观莉性能有很大的影响。如进行硫酸阳极氧化时，铜含量高的铝合金，由于CuAl：的溶解使膜层比较疏松、多孔，含硅高的铝。合金膜层灰暗。畲铜大于5%或含硅大于7.5%的铝合金不宜进行铬酸阳极氧化。含铜或硅含量高的铝合金不能按膏规的方法进行硬质阳极氧化，而必须选用特种波形的电源进行。
　　真空镀对于装饰性阳极氧化，对铝及铝合金材质的要求就较高。一般只有纯铝、包铝、铝镁、铝锰合金才能染着较鲜艳的色彩。而对于含硅、铁较高的合金，因所得氧化膜颜色较暗而只能染着深的颜色。铝及铝合金零件进行装饰性阳极氧化时，在选材上应注意以下几点：
　　真空镀对于要求镜面状态表面的零件，必须选择铝含量高于99.99%的高纯度铝或5A66铝镁合金。零件经化学或电化学抛光后进行硫酸阳极氧化可得到无色、透明、光亮的膜层，可染着上各种鲜艳的色彩。
　　真空镀对于要求表面光亮度比上面低一些的零件，可以选用含铝量高于99.9%的工业高纯铝和LT65、LT67的铝镁合金。
　　真空镀对于一般装饰要求的零件，对铝材中其他成分及其杂质有一最大允许含量要求，其数值见表1。其中最好选用铝镁合金。
　　真空镀装饰要求阳极氧化用铝材中的其他成分及杂质最大允许含量一般装饰要求阳极氧化用铝材中的其他成分及杂质最大允许含量。
　　真空镀选用时，还应注意：
　　1)选用的铝材表面不应有严重的划伤，组织缺陷和夹杂。它们会影响氧化膜层的外观和抗蚀性。
　　2)某些铝合金应使用合理的规范进行热处理。晶粒的大小对氧化膜的结构和性能有一定影响。粗大的晶粒在氧化过程中反应不均匀，常出现橘皮状外观。因此，一般均希望铝材有较细的晶粒结构。
　　一、真空镀膜设备行业现状我国真空工业经过50多年的发展，已形成了门类齐全结构完整的工业体系，肩负起对国民经济各领域进行技术装备的重任。多年来，行业企业通过技术引进、技术改造和合资合作等方式，使企业管理水平、技术水平和产品质量都有显著的提高。从产品产量、品种、规格和质量上，基本都能满足国民经济各部门和人民生活各方面的需求。
　　二、发展环境分析及需求预测
　　(1) 冶炼及冶金行业 我国炉外脱气精炼今后要增加50%以上（根据不同品种）。真空脱气机组的需求约为10～15亿元/年。其次是真空冶金炉，如真空感应炉、真空电弧炉和真空电阻炉等冶炼高级合金钢的基本设备。
　　(2) 真空热处理行业 我国真空热处理行业提出2010年基本完成以少氧化热处理为中心的技术改造，预计至少需要 台先进设备。
　　(3) 电工行业 今后我国电机制造业的目标是上品种、上档次、降低能耗和物耗，扩大出口。
　　(4)电子信息行业 预测2010年我国将成为世界上第二大半导体集成电路市场。总需求量为1000多亿块，达到1000亿以上的总金额。
　　(5) 食品工业 用于食品工业中的主要真空设备有真空冷冻干燥机、真空包装机、真空封罐机、真空浸渍和真空保鲜装置等。食品保鲜与加工设备，拥有巨大的市场潜力。
　　三、发展目标和发展重点
　　（1）发展目标 真空设备行业“十一?五”期间，将以年10% 的速度增长，到2010 年实现工业总产值（不变价）28亿元，工业总产值（现行价）26.4亿元、工业销售产值23亿元、产品销售收入26亿元、出口交货值1.5亿元，利润总额1.4亿元。
　　（2）发展重点 “十一?五”期间，真空行业的产业发展目标是：
　　①量大面广的真空获得产品80% 以上达到20 世纪初国际同类产品水平。国内市场占有率90% 以上。
　　②低温泵、干式泵形成系列化、规模化，国内市场占有率30%～40%。
　　③制备ITO膜的磁控溅射镀膜机争取国内市场占有率50%。
　　④各种真空热处理炉达到国内市场占有率95%。
　　⑤大型卷绕式镀膜机达到国内市场占有率70%～80%。
　　⑥各类真空检测仪器达到国内市场占有率70%～80%。
　　⑦各种真空阀门达到国内市场占有率85%～90%。为此，需重点研制以下产品：
　　真空获得产品
　　(1) 对量大面广的旋片真空泵，滑阀真空泵、罗茨真空泵的返油、漏油，振动和噪声要加强研究予以解决，以便使其综合水平接近国际同类产品先进水平。
　　(2) 研发宽量程、低返油率且能获超高真空的油扩散真空泵。使其泵功能扩大、满足用户需要。
　　(3) 研发出节能节水高效水蒸汽喷射泵，以满足冶金、石化等行业的要求。
　　(4) 研究开发磁流体轴承、陶瓷轴承在分子泵中的应用，提高分子泵的可靠性和使用寿命。
　　真空应用设备
　　(1) 对真空冶炼炉、真空热处理炉、真空浸渍设备和真空镀膜机等大型成套设备，研究完善向机电一体化方向发展。
　　(2) 研发出低温对流加热和等温淬火的高压气淬真空热处理炉，增加品种，满足用户的需求。
　　真空检测仪器
　　(1) 研究真空计向一体化、系统化和智能化发展的方向，为提高精度，满足自动化的需要。
　　(2) 研究提高氦质谱检漏仪的灵敏度，并向小型携带式（电池驱动）方向发展。
　　重点项目
　　(1) 大力开展低温泵、各种结构的干式真空泵的研究开发工作。并尽快形成系列化生产规模。以满足信息、生物、医药和食品等行业需要，减少进口。
　　(2) 进一步完善制备ITO膜的磁控溅射镀膜机的功能、提高综合水平满足市场需要。
　　真空蒸发镀膜及应用
　　真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。蒸镀是物理气相沉积（PVD）技 术中发展最早、应用较为广泛的镀膜技术，尽管后来发展起来的溅射镀和离子镀在许多方面比蒸镀优越，但真空蒸发镀膜技术仍有许多优点，如设备与工艺相对比较 简单，即可沉积非常纯净的膜层，又可制备具有特定结构和性质的膜层等，仍然是当今非常重发的镀膜技术。近年来，由于电子轰击蒸发、高频感应蒸发以及激光蒸 发等技术在蒸发镀膜技术中的广泛应用，使这一技术更趋完善。
　　真空蒸发镀膜的物理过程
　　将膜材置于真空室内的蒸发源中，在高真空条件下，通过蒸发源加热使其蒸发，膜材蒸气的原子和分子从蒸发源表面逸出后，且当蒸气分子的平均自由程大于真空室 的线性尺寸以后，很少受到其他分子或原子的冲击与阴碍，可直接到过被镀的基片表面上，由于基片温度较低，便凝结其上而成膜。为了提高蒸发分子与基片的附着 力，对基片进行适当的加热或郭清洗使其活化是必要的。
　　真空蒸发镀膜从物料蒸发输运到沉积成膜，经历的物理过程为：
　　1）采用各种能源方式转换成热能，加热膜材使之蒸发或升华，成为具有一定能量的气态粒子；
　　2）离子膜材表面，具有相当运动速度的气态粒子以基本上无碰撞的直线飞行输运到基片表面；
　　3）到达基片表面的气态粒子凝聚形核后生长成固相薄膜；
　　4）组成薄膜的原子重组排列或产生化学键合。
　　为使蒸发镀膜顺利进行，应具备两个条件：蒸发过程中的真空条件和镀膜过程中的蒸发条件。
　　蒸发过程中的真空条件。蒸发镀膜过程 中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其其他粒子碰撞为止。在真空室
内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生磁撞而改变运动方向。为此，增加残余气体 的平均自由程，借以减少其与蒸气分子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。当真空容器内蒸气分子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离时，就会获得充 分的真空条件。
　　真空条件下物质的蒸发特点。膜材加热到一定温度时就会发生气休现象，即由固相或液相进入到气相，在真空条件下物质的蒸发比在常压下容易得多，所需的蒸发温度也大幅度下降，因此熔化蒸发过程缩短，蒸发效率明显地提高。
　　液相或固相的膜材原子或分子要从其表面逃逸出来必须获得足够的热能，有足够大的热运动；当其垂直表面的速度分量的动能足以克服原子或分子间想到吸引的能量 时，才可能逸出表面，完成蒸发或升华。在蒸发过程中，膜材汽化的量与膜材受热有密切关系。加热温度越高，分子动能越大，蒸发或升华的粒子量就越多蒸发过程 不断地消耗膜材的内能，要维持蒸发，就要不断地补给膜材热能。蒸发过程中膜材的蒸发速率及其影响因素等与其饱和蒸气压密切相关。
　　在一定温度下，真空室中蒸发材料的蒸发在固相或液相分子平衡状态下所呈现在压力为饱和蒸气压。在饱和平衡状态下，分子不断地从冷凝液相或固相表面蒸发，同时有相同数量的分子与冷凝液相或固相表面相碰撞而返回到冷凝液相或固相中。
　　蒸发源。蒸发源是用来加热膜材使之汽化蒸发的装置。目前所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等多种形式。
　　电阻加热式蒸发源：电阻式蒸发源简单、经济、可靠，可以做成不同的容量、形状并具有不同的电特性。
　　电子枪加热蒸发源：有时很多材料不能用电阻加热的形式蒸发，例如常用于可见光和近红外光学器件镀膜的绝缘材料。在这种情况下，必须采用电子束加热方式。电 子束加热所用的电子枪有多种类型可供选择。多坩埚电子枪可采用一个源对多种材料进行蒸发，这种枪在镀制多层膜且膜层较薄的工艺中应用效果很好。当需要每种 镀膜材料用量较大，或每个源都需要占用不同的位置时，可以选用单坩埚电子枪。电子枪所用电源的大小更多地取决于蒸发材料的导热性，而不是其蒸发温度。电源 功率一般在4-10KW之间，对于大多数的绝缘材料，4KW就足够了，而如果想达到很高的沉积速率，或在一个很大的真空室内对导热材料进行蒸发时，则需要 10KW以上的更大功率的电源
　　电子束加热原理：电子束加热蒸发源是利用热阴极发射电子在电场作用下成为高能量密度的电子束直接轰击至镀料上。电子束的动能转化为热能，使镀料加热汽化，完成蒸发镀膜。
　　感应加热式蒸发源：利用高频电磁场感应加热膜材使其汽化蒸发的装置称为感应加热式蒸发源
　　感应加热式蒸发源具有如下特点：
　　1）蒸发速率大。在卷绕蒸镀膜中，当沉积铝膜厚度为40nm时，卷绕速度可达270m/min,比电阻加热式蒸发源高10倍左右。
　　2）蒸发源温度均匀稳定，不易产生液滴飞溅现象。可避免液滴沉积在薄膜上产生针孔缺陷，提高膜层质量。
　　3）蒸发源一次装料，无需送丝机构，温度控制比较容易，操作简单。
　　4）对膜材纯度要求略宽此，如一般真空感应加热式蒸发源用99.9%纯度的铝即可，而电阻加热式蒸发源要求铝的纯度为99.39%，因此膜材的生产成本也可降低。
　　5）坩埚温度较低，坩埚材料对膜导污染较少。
　　激光加热式蒸发源：激光束加热蒸发的原理是利用激光源发射的光子束的光能作为加热膜材的热源，使膜材吸热汽化蒸发，激光加热蒸发技术是真空蒸发镀膜工艺中的一项新技术。
　　电弧加热蒸发源：电弧加热蒸发源是在高真空下通过两导电材料制成的电极之间产生电弧放电，利用电弧高温使电极材料蒸发。
　　电弧源的形式有交流电弧放电、直流电弧放电和电子轰击电弧放电等形式。
　　电弧加热蒸发的优点是既可避免电阻加热法中存在的加热丝、坩埚与蒸发物质发生反应和污染问题，还可以蒸发高熔点的难熔材料。
　　电弧加热蒸发的缺点是电弧放电会飞溅出微米级的靶电极材料微粒，对膜层不利。
　　真空镀膜机广泛地应用于光学、电子、玩具、建材、五金、钟表、汽车、民用装饰品、太阳能、集成电路等行业。
　　真空镀膜机具体应用范围：
　　1、在硬质涂层中的应用：切削工具、模具和耐磨耐腐蚀零件等。可选用磁控中频多弧离子镀膜设备
　　2、在防护涂层中的应用：飞机发动机的叶片、汽车钢板、散热片等。选用磁控溅射镀膜机
　　3、在光学薄膜领域中的应用：增透膜、高反膜、截止滤光片、防伪膜等。可选用光学镀膜设备
　　4、在建筑玻璃方面的应用：阳光控制膜、低辐射玻璃、防雾防露和自清洁玻璃等。可选用低辐射玻璃镀膜生产线
　　5、在太阳能利用领域的应用：太阳能集热管、太阳能电池等。可选用磁控溅射镀Al膜生产线
　　6、在集成电路制造中的应用：薄膜电阻器、薄膜电容器、薄膜温度传感器等。可选用PECVD磁控生产线
　　7、在信息显示领域的应用：液晶屏、等离子屏等。选用AZO透明导电膜磁控溅射镀膜生产线
　　8、在信息存储领域的应用：磁信息存储、磁光信息存储等。可选用磁控溅射镀膜设备
　　9、在装饰饰品上的应用：手机壳、表壳、眼镜架、五金、小饰品等镀膜。可选用蒸发式真空镀膜设备
　　10、在电子产品领域的应用：液晶显示器、液晶电视、MP4、车载显示、手机显示、数码相机和掌声电脑等。可选用抗反射导电膜连续
　　真空镀膜机在塑料制品行业的应用和技术
　　ZHL系列塑料真空镀膜机是蒸发式镀膜装置，其工作原理是在真空状态下，通电加热放在钨丝上的金属或非金属材料，当钨丝达到一定温度后，镀料便蒸发成蒸汽分子或原子；由于蒸汽分子的平均自由程大于从蒸到工件物线性尺寸，因此蒸汽分子或原子从蒸发源蒸发出来后，向各个方向直线射出，而很少受到其它分子的冲击和阻碍，这样被蒸发的分子或原子碰到工件时，便凝结在工件上面而形成膜层， 达到塑料装饰美化物品表面的目的。
　　该塑料真空镀膜机具有
结构合理、膜层均匀、成膜质量好、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便，能耗低，性能稳定等优点。广泛应用于塑料（ABS、PS、PP、PC、PVC）、尼龙、陶瓷、树脂、玻璃等材料的玩具、饰物、工艺品、手机壳、电子产品、灯饰配件、化妆包装等行业。
　　用户除可参照下列常用型号订货外，本公司还可根据用户要求设计各种规格型号的真空镀膜机。
　　真空机组也可根据用户要求进行设计配置。
　　设备型号 :ZHL-1200,ZHL-1400,ZHL-1600,ZHL-1800,ZHL-2000
　　真空室尺寸 :,,,,
　　制膜种类 :半透明膜、金、银、红、蓝、绿、灰、黑、七彩等多种颜色
　　电源类型 :电阻加热钨丝蒸发变压器电源、高压离子轰击电源、可控硅电源
　　真空室结构:立式双开门、立式单开门、卧式单开门、抽气系统
　　真空系统 :滑阀泵＋罗茨泵＋扩散泵＋维持泵（或选配：分子泵、深冷泵、深冷系统）
　　极限真空 :8×10－4pa（空载、净室）
　　抽气时间:空载大气抽至5×10－2pa小于6分钟。
　　工件旋转方式 :6轴/8轴/9轴公自转/变频无级调速
　　控制方式 :手动＋半自动＋全自动一体化/触摸屏＋PLC
　　真空镀膜技术又称为气相沉积技术，一般分为两大类，包括物理气相沉积和化学气相沉积。
　　物理气相沉积是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离子化为离子，直接沉积到基体表面上的方法，主要包括真空蒸镀、溅射镀膜、离子镀膜等。
　　化学气相沉积是把含有构成薄膜元素的一种或几种化合物、单质气体供给基体，借助气相作用或在基体表面上的化学反应，在基体上制得金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。
　　真空镀膜机在塑料制品的应用上最为广泛。塑料具有易成型，成本低，质量轻，不腐蚀等特点，塑料制品应用广泛，但因其缺点制约了扩大应用，如不美观、易老化、机械性能差、耐热差、吸水率高等。通过真空镀膜技术的应用，使塑料表面金属化，将有机材料和无机材料结合起来，大大提高了它的物理、化学性能。其优点主要表现在
　　一、改善美观，表面光滑，金属光泽彩色化，装饰性大大提高；
　　二、改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜，硬度及耐磨性大大增加；
　　三、提高耐候性，一般塑料在室外老化很快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射最强，因此，耐候性大大提高；
　　四、减少吸水率，镀膜次数愈多，针孔愈少，吸水率降低，制品不易变形，提高耐热性；
　　五、使塑料表面有导电性；
　　六、容易清洗，不吸尘。
　　塑料制品表面金属化后，应用范围将更加广泛。塑料件表面的真空镀膜可分为功能性镀膜和装饰性镀膜。作为功能性镀膜，它可改善塑料件表面的物理、化学性质，如可提高塑料件的尺寸稳定性、导电性等；作为装饰性镀膜，可使塑料件 表面具有金属光泽并可根据实际装饰的需要制作出不同的颜色，如金黄色、古铜色、金属红色、金属绿色、金属蓝色等，具体可参见样品展示。
　　玻璃镀膜的现状与发展简介
　　玻璃以其透明、高可见光透过率、高硬度、耐磨、重量轻等优异性能早已被广泛应用于建筑物门窗、天窗、幕墙等部位，为建筑特提供景观、装饰、采光及获得阳光辐射能量，成为建筑物不可缺少的主要材料。玻璃同时也是汽车、飞机、轮船等交通工具制造业、高科技行业及其它很多经济部门重要原材料。
　　但是玻璃也存在隔热、隔声性能差、脆性、抗冲击强度低等缺陷，满足不了现代建筑节能、隔声、安全等更高功能的要求，影响其在各个领域的使用。为满足需求，在保持玻璃原有的优异性能的基础上，进行二次技术加工，改变原有的缺陷，赋予其新的隔热、保温、隔声、导电、防电磁波、防红外线、防紫外线辐射等多种优良性能，提高其抗冲击强度和装饰美化功能，使玻璃在现代工业、建筑业、高科技领域和国民经济各领域得到更广泛的应用。
　　镀膜玻璃是一种玻璃深加工产品。它具有装饰、控制光线、调节热量、节约能源、改善环境等多种功能。玻璃镀膜是通过各种物理或化学的方法，将某种元素或化合物附着在玻璃的表面上，使其具有人们预期的性能。玻璃镀膜以后，将赋予玻璃新的光学性能（反射、透射、吸收及扩散）、电学性能（导电、绝缘）、机械性能（抗拉、抗压、抗弯、抗冲击及耐划）、物理性能（防水、防雾、防油、除冰及抗热膨胀）、耐蚀性能（耐酸、耐碱及耐水）、美学性能（着成各种颜色、艺术图案）等等。因此，玻璃镀膜已成为最重要的玻璃深加工内容之一。镀膜玻璃的生产方法很多，归纳起来主要有银镜还原法、热分解法、浸镀法、电浮法、真空蒸镀法及磁控溅射法等。
　　镀膜玻璃的历史可追溯到1835年以前，欧洲人就开始用银镜还原法生产镜面膜玻璃了。二十世纪初，欧洲出现了增透膜及反射膜玻璃。1970年以后，随着真空镀膜技术及浮法玻璃在线喷镀技术的迅速发展，大量出现了镜面膜、热反射膜、低辐射膜、导电膜等镀膜玻璃。低辐射膜玻璃是七十年代能源危机所造就的产物。建筑领域开始出现一种叫做“光亮派”建筑，大量的玻璃作为墙体材料被用于现代建筑中，导致玻璃幕墙的产生。
　　玻璃幕墙用于玻璃作为墙体材料，使建筑的整体重量大大下降，同时，赋予现代建筑新的魅力，使传统建筑有机会向高层和多元方向发展。但玻璃幕墙都趋向于大面积采光，普通透明玻璃的传热系数偏高，且对太阳能辐射和远红外热辐射无法有效限制。在夏季，在强烈的太阳能辐射和远红外热辐射下，大量热量进入室内；在冬季，室内大量取暖热量散失。同样，在低纬度的热带和亚热带地区，在强烈的太阳能辐射和远红外热辐射下，大量热量进入室 内；而在高纬度的温带和寒冷地区，室内大量取暖热量散失。上述情况直接导致降温或取暖费用的大量上升。为此，人们开始对玻璃表面进行加工处理，并根据不同的地区和客户的需要，加工成各种类型的玻璃产品，这就促成了镀膜玻璃的产生。
　　CVD技术原理、特点
　　CVD技术的原理及特点如下：
　　CVD技术原理是建立在化学反应基础上的，习惯上把反应物是气态而生成物之一的固态的反应称为CVD反应。
　　目前常用的CVD沉积反应有下述几种类型。
　　1、热分解反应
　　2、氢还原反应
　　3、置换或合成反应
　　4、化学输运反应
　　5、固相扩散反应
　　CVD技术优点：
　　1、应用范围广
　　2、成膜速度快
　　3、工作是在低真空条件下进行的，因此镀膜的绕射性好，在形状复杂，如有深孔，细孔的工件上都能均匀镀膜。
　　4、由于反应气体、反应产物和基片的相互扩散，可以得到附着强度好的镀膜，这对于制备耐磨、抗腐蚀等表面强化膜是很重要的。
　　5、由于薄膜生长的温度比膜材的熔点低得多，因此能得到高纯度、结晶完全的膜层，这是某些半导体用镀层所必需的。膜层纯度高，结晶完全是由于低温生长，反应气体和反应器壁以及其中所含不纯物几乎不发生反应，对膜层玷污少等原因所致。
　　6、CVD可以获得平滑的沉积表面。在沉积过程中成核率高，成核密度大，在整个平面上分布均匀，从而可产生宏观平滑的表面。
　　7、辐射损伤低，这是制造MOS（金属氧化物半导体）等器件不可缺少的条件。
　　CVD技术的缺点
　　1、反应温度高，一般为1000左右。2、有时参加沉积的反应物及反应后的气体易燃、易爆、有毒或具有腐蚀性，因此需要采取预防措施。3、欲对基材 局部或某个表面沉积薄膜很困难。
　　TCO玻璃生产线
　　TCO玻璃生产线是采用卧式，双端进出，在线镀膜、检测为一体的大型连续磁控溅射镀膜专用生产线。它利用磁控溅射原理可在大平板玻璃上镀制金属单质膜、合金膜或金属化合物膜，经镀膜的玻璃具有透明导电和其它功能作用。
　　生产线的上片可采用人工上片或自动上片，传送系统由变频调速器控制各段输送机构的驱动电机，带动水平同步输送托辊运转，实现逐段水平输送。电控系统由PLC+PC控制，CRT显示、打印。所有参数，包括工艺气体流量、溅射电压、电流（功率）、镀膜速度、实时监控参数和曲线，实时显示、打印。
　　谈真空镀膜机各部分的组成及工作原理
　　高真空镀膜机，镀膜机是目前制作真空条件应用最为广泛的设备。其相关组成及各部件：机械泵、增压泵、油扩散泵、冷凝泵、真空测量系统.以下由东莞爱加真空高级工程师为大家详细介绍真空镀膜机各部分的组成及工作原理。
　　一、真空主体--真空腔
　　根据加工产品要求的各异，真空腔的大小也不一样，目前应用最多的有直径1.3M、0.9M、1.5M、1.8M等，腔体由不锈钢材料制作，要求不生锈、坚实等，真空腔各部分有连接阀，用来连接各抽气泵浦。
　　二、辅助抽气系统
　　此排气系统采用“扩散泵+机械泵＋罗茨泵＋低温冷阱＋polycold”组成 排气流程为：机械泵先将真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空状态，为扩散泵后继抽真空提供前提，之后当扩散泵抽真空腔的时候，机械泵又配合油扩散泵组成串联，以这样的方式完成抽气动作。
　　排气系统为镀膜机真空系统的重要部分，主要有由机械泵、增压泵（主要介绍罗茨泵）、油扩散泵三大部分组成。
　　机械泵：也叫前级泵，机械泵是应用最广泛的一种低真空泵，它是用油来保持密封效果并依靠机械的方法不断的改变泵内吸气空腔的体积，使被抽容器内气体的体积不断膨胀从而获得真空。
　　机械泵有很多种，常用的有滑阀式（此主要应用于大型设备）、活塞往复式、定片式和旋片式（此目前应用最广泛，本文主要介绍）四种类型。
　　机械泵常常被用来抽除干燥的空气，但不能抽除含氧量过高、有爆炸性和腐蚀性的气体，机械泵一般被用来抽除永久性的气体，但是对水气没有好的效果，所以它不能抽除水气。旋片泵中起主要作用的部件是定子、转子、弹片等，转子在定子里面但与定子不同心轴，象两个内切圆，转子槽内装有两片弹片，两弹片中间装有弹簧，保证了弹片紧紧贴在定子的内壁。
　　真空镀膜机就是设计为在真空环境下将金属铝蒸镀在卷装塑料膜或纸表面。
　　本机器在介质的单面上蒸镀，以用于高级包装材料，装饰膜或其他相似应用。本机型可选装高频感应式蒸发、蒸发材料；铝、银、铜、二氧化硅、硫化锌等。
　　真空镀膜机的出现就是为在真空环境下将金属铝蒸镀在卷装塑料膜或纸表面。真空镀膜机的出现有力的解决了镀膜行业里的疑难问题，大大加速了企业产品的产量和质量，深受各企业朋友们和业界专业者的认同和亲睐，可以说是镀膜飞跃性的标志。从原来的水镀、电镀等并不完善的传统镀膜方法，发展成高效能环保的真空镀膜时代。这不仅让是现代化企业进程的表现，而且真空镀膜属于绝对环保的设备，得到政府的大力倡导和支持，所以真空镀膜机是这个时代的产物和新生儿。
　　更多的企业，都纷纷购买了属于自己拥有的真空镀膜机。在这里，作为东莞爱加真空科技科技有限公司的小编得提醒下朋友们，购买真空镀膜机也需要注意很多问题的，而且还要懂得怎样去维护这些小常识。
　　真空镀膜设备系统的安装和使用
　　1 讲究真空卫生
　　从事真空操作的车间应当保持清洁的工作环境。对要装配的组件和材料必须认真地进行清洁处理。如果没有处理好，带到系统内的污物将成为放气源，给执真空工作带来困难。
　　装时应采用抽气和找漏相结合的方法
　　现以扩散泵机械泵系统为例，加以说明。首先装好机械泵，抽气后达到要求的真空度再装扩散泵并抽空检查，符合扩散泵真空度的要求后才安装被抽容器。决不能把很多真空元件不经检查，一次安装完毕。否则，一旦发生漏气，找漏孔就会十分困难。假如系统安装后仍产生漏气，则要采用分段检漏方法按图1所示，将检漏仪器5安装在靠近机械泵6的位置上，在阀门2.4关闭的情况下，检漏仪器5可检查低真空系统的漏气情况。假如这部分不漏气或已把漏孔堵死，则可打开阀门4检查扩散泵部分有没有漏气，最后打开阀门2检查被抽容器有没有漏气。这种方法比较简单易行而且节省时间。
　　磁控溅射镀膜时需满足什么样的条件？镀膜的方法有很多种，真空镀膜，真空蒸发镀膜，还有离子镀膜等等，但是最近一段时间比较热门的磁控溅射镀膜，好像很厉害的样子，今天我们一起来听听真空镀膜设备厂家东莞爱加真空来给我们介绍一下磁控溅射的原理吧！
　　磁控溅射在放电的过程中，会离轰击阴极产生二次放电，电子一班在阴极的位置电场下产生作用，然后与正在加速的气体发生碰撞，这样可以让气体分子维持放电状态，因为电子在电场加速的轨迹一般都是直线，所以发生碰撞的几率是很低的，如果我们在与电场垂直的方向加磁场，电子会成为与运动轨迹相同的摆线，在实际的磁控条件中，从阴极发出来的电子是有能量的，并且在很阴暗的地方电场是不均匀的，从阴极发射出来的电子运动轨迹都会形成不规则的摆线，我们称为摆线运动，溅控溅射镀膜机的靶子就是这个镀膜的源头，在运行过程中他必须满足两个条件，第一个是必须要有正交的电磁场，第二个是电磁场的防线必须要是平行的，并且在闭合的地方有水平磁场，从阴极发射出来的电子，会在阴暗地区活得能量，有了水平磁场的存在他就能直接飞向阳极，在接近轨迹的时候，电子轨迹的运动就会假唱，而且只有电子可以通过能量交换掏出磁场，在能量没有完全交换之前，飞行一百米左右完成镀膜，所以真空镀膜机被称为最快的溅射速度！
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