类镍钽软X射线激光用高反射镜的研究
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微晶硅薄膜的表面粗糙度及其生长机制的x射线掠角反射研究 (1)
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一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法
一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法
作者/编辑：冯仕猛&&…
提出一个利用多层膜小角X射线衍射谱衍射峰积分强度计算多层膜界面粗糙度的公式.用磁控溅射技术制备Mo/Si多层膜,用波长为0.154 nm的硬X射线样品在小掠入射角区的衍射曲线,分别用本文公式和反射率曲线拟合计算了样品的界面粗糙度.结果表明:由本文公式获得的界面粗糙度近似于拟合方法获得的界面粗糙度,它们略等于多层膜界面实际粗糙度.
冯仕猛,赵海鹰,黄梅珍,窦晓鸣(交通物理系,上海)范正修,邵建达(科上海光学精密机械研究所,上海,201800)&
英文刊名：
ACTA OPTICA SINICA&
年，卷(期)：
&&X射线衍射强度
　　〔一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法〕随文赠言：【不积跬步，无以至千里；不积小流，无以成江海。――荀况】
　　一种软X射线多层膜界面粗糙度的计算方法所属栏目：〖 尚无数据〗
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软X射线Mo_Si多层膜反射率拟合分析
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