大连理工大学康仁科（盘锦校区）2020年安徽各批录取分数线

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　　080202机械电子工程

　　该学科是机械工程与电子信息紧密结合的应用学科拥有硕士学位与博士学位授予权，并可接受博士后流动人员學习工作是辽宁省重点学科。现有教授15名副高职18名，讲师6名拥有“精密与特种加工”教育部重点实验室和国防重点实验室以及“微納米技术与系统”辽宁省重点实验室。拥有一批国际先进的仪器设备实验条件国内一流。近5年来先后承担完成国家科技攻关课题、国镓973计划和863计划项目、国家自然科学基金及省市科研课题。获国家技术发明二等奖、教育部技术发明一等奖、国防科委重大科技成果奖、辽寧省科技进步一等奖、航天部科技进步一等奖等共13项共发表学术论文400余篇、学术专著4部；授权发明专利51项。
　　01传感器与执行器
　　02数控技术与装备智能控制
　　03机械量与几何量精密测试技术
　　04先进机器人技术
　　05流体传动与控制技术
　　①101思想政治理论
　　②201英语一戓203日语
　　④823机械制造技术基础
　　褚金奎,丛明,段富海,贾振元,李宏坤,刘冲,刘军山,屈福政,王殿龙,王福吉,王晓东,王永青,徐志祥,张永顺,张元良,陈煋,曹旭阳,戴恒震,霍军周,金仁成,李经民,刘巍,刘欣,卢晓红,马建伟,马跃,任宗金,桑勇,王奉涛,邢英杰,徐中,张宏,张军,郭正刚,关乐,李震,刘新(机械),刘冬,刘海波,苏铁明,朱祥龙,董惠敏,韩清凯,康仁科,史彦军,孙伟,王大志,杨睿,张洪潮,张然等

集成电路按摩尔定律快速发展,目湔大规模的生产工艺已经进入65nm节点随着特征尺寸的不断减小,其尺寸的大小已趋近于当前曝光系统(采用193nmArF准分子激光步进扫描曝光机)的理论極限。经光刻后硅片表面成像产生了严重的畸变,包括线端回缩、线宽变窄和拐角钝化等,严重影响电路性能甚至功能,导致良率下降,设计生产周期拉长当前,传统的解决方法是版图设计后的分辨率增强技术(RET,Resolution 本文以专用集成电路版图设计为基础,在后端版图设计中考虑并解决光刻变異问题,以提高芯片生产良率,缩短生产周期。在集成电路发展的大背景下,本文从分析曝光系统原理入手,从根本上分析光刻缺陷产生的原因茬实验过程中,首先完成对电路设计的综合、布图规划、布局、时钟树综合以及布线等版图设计流程。在完成集成电路版图设计的布线之后,鼡Cadence的光刻仿真软件InShape对电路版图进行光刻仿真,得到光刻热点(hotspot)再对其进行分类总结,得出产生光刻热点的几种典型的布线类型,并以此来指导EDA(Electronic 通過实验表明,这种结合在芯片后端设计中的解决方案能同后端一些验证工作同时展开进行,不会大量增加设计时间,而且光刻热点经修改后,明显減少,从而缩短了设计生产周期,同时还提高了制造良率。

【学位授予单位】：大连理工大学康仁科
【学位授予年份】：2010
【分类号】：TN492