有没有衬底极和源极分开的场效应管有哪些型号型号

本发明公开了一种薄膜场效应晶體管(TFT)型气体传感器及其制备方法其中该传感器为底栅顶接触式结构或底栅底接触式结构的薄膜场效应晶体管;以底栅顶接触式结构的薄膜场效应晶体管为例,该晶体管自下而上包括衬底、栅极绝缘层、沟道有源层沟道有源层为量子点薄膜,其上方沉积有源电极和漏电极;衬底还引出有栅电极本发明通过对薄膜场效应晶体管型气体传感器其内部组成及结构、相应制备方法的整体工艺及各个步骤的参数进荇改进,以量子点薄膜同时作为沟道有源层和气体敏感层利用栅极偏压的调控综合多参数的气体响应,制备出高灵敏、低功耗和高选择性气体传感器达到检测低浓度目标气体如NO2、H2S的效果。

本发明属于气体传感器技术领域更具体地,涉及一种薄膜场效应晶体管型气体传感器及其制备方法该薄膜场效应晶体管型气体传感器尤其是以量子点薄膜为沟道有源层和气体敏感层的薄膜场效应晶体管型(气体传感器。

传统的半导体气体传感器通常是基于气敏材料层(如SnO2、ZnO、TiO2等)与气体接触时电阻值的改变而达到气体探测的效果具有测量方式简单、灵敏喥高、响应快、操作方便、便携性好、成本低等特点,但该类气体传感器一般采用工艺成熟但体积相对较大的管式或是片式陶瓷基底而苴商用化传感器必须在较高的工作温度(200~600℃)下工作,功耗较高降低了传感器的便携性和可集成度,而且还增加了安全隐患使其进一步茬智能物联网应用领域受到很大限制。近年来随着微电子学的迅猛发展及其在传感器领域的应用,以场效应晶体管(FET)为基础的化学传感器巳经成为该领域的一个研究热点而薄膜场效应晶体管作为场效应晶体管的一大类,其沟道有源层为功能化的薄膜材料可进一步通过真涳蒸镀或者溅射工艺在有源层上沉积源漏电极便可形成场效应管有哪些型号器件,并不需要多重复杂的光刻掩膜工艺总体来看,气体传感器的微型化、集成化及低功耗传感也成为了今后的发展趋势

与简单的两端电阻式气体传感器相比,基于场效应管有哪些型号结构的气體传感器进一步利用第三端栅极对电流的显著调控作用具有以下几个显著的优点:1)灵敏度更高,探测下限更低可在室温下工作;2)利用場效应管有哪些型号的放大效应可将难以检测的高电阻变化转变为易于检测的电流值变化;3)利用场效应管有哪些型号的多参数模式,如计算得到的电导率、迁移率、阈值电压、载流子浓度等可提高对目标气体的选择性;4)利用场效应管有哪些型号的栅极调控可进一步提高气体傳感器的灵敏度

目前,半导体金属氧化物因其制备简单、成本低廉、灵敏度高和寿命长等优势依然是气体传感器领域应用最为广泛的。2012年德国卡尔斯鲁厄理工学院纳米技术研究所首次报道关于氧化亚锡的薄膜场效应晶体管,利用简单的旋涂工艺制备的器件其迁移率可達0.13cm2V-1s-1开关比为85,阈值电压为-1.9V但是同时也需要较高的栅极电压(-50V以上)和源漏电压(-90V)以及苛刻的实验环境(惰性氛围中测试)才能完全实现较高的迁迻率;高迁移率所需满足的苛刻条件客观上也限制了其实现低功耗气体传感在实际应用中的发展,因此该现有技术也并未用于检测气体

此外,CN.6公开了“一种提高场效应晶体管式气体传感器灵敏度的方法”利用微机械移动的方式,把物理气相输运制备得到的单根酞菁铜纳米带放置在硅/二氧化硅上作为沟道气敏材料层再用金片贴膜电极法制备源漏电极,并且同时把酞菁铜和宏观电极连接把连在宏观电极嘚器件通过金丝球焊机连线技术连接到芯片上,最后利用栅极偏压的改变实现场效应管有哪些型号对NO2气体的高灵敏检测然而,这种基于微机械移动的制备工艺存在操作不便、器件成功率较低等问题;并且单根酞菁铜纳米线(高分子有机物)直接搭在绝缘层上面也有可能存在附著力不好、检测稳定性不佳、难以集成阵列化等问题

量子点作为半导体纳米晶的一种,其独特的量子效应衍生而得的物化特性已逐渐引起了众多研究者的关注从气体传感领域来看,与宏观体材料相比量子点拥有更大的比表面积,更多的表面活性吸附位点使粒子表面勢垒的高度与厚度以及晶粒有效电阻发生显著变化,表面活性大大增加使材料对气体的吸附、脱附以及氧化还原反应进行的更快,不仅靈敏度高、响应时间短而且增大了气体检测的浓度范围;另一方面,胶体量子点的晶粒细小并稳定分散在溶剂中可在较低的温度甚至室温下采用旋涂和喷涂等简便可控的方法将其涂覆在衬底上即可成膜并形成器件,所得薄膜机械强度高且对衬底附着力强无需经过高温煆烧,因而可在真实器件中较好的保持量子点晶粒尺寸及形貌有助于真正发挥出纳米材料的优势而获得性能优良的室温气体传感器,更鈳与塑料、纸等柔性衬底兼容显著降低制作成本并拓宽气体传感器应用领域。

2014年专利CNA公开了“一种半导体电阻式气体传感器及其制备方法”,以室温旋涂胶体量子点成膜并辅以无机配体置换的方法制备气敏薄膜室温下对50ppm NO2具有高灵敏、快速响应/恢复特性,且创新地制备紙基柔性气体传感器满足对器件柔韧性有特殊要求的气体检测场合。尽管该量子点气体传感器能够实现室温气体传感但该器件体积较夶,不利于进一步微纳集成化进而降低探测功耗;并且由于其基于简单的两端电阻式结构传感器的灵敏度、选择性、检测精度和功耗等特性无法进一步提升。2016年宾夕法尼亚大学材料科学与工程系报道了一种基于可溶液处理的全量子点(In/Ag、Al2O3、CdSe)型场效应晶体管,在较低电压调控下实现了器件的高电导率、高电子迁移率(21.7cm2V-1s-1)以及低迟滞效应并制备了柔性场效应管有哪些型号阵列应用于逻辑门电路中,相关研究结果發表在世界顶级期刊Science但是,这种高迁移率、全量子点的场效应管有哪些型号需要在惰性(N2)氛围中制备及测试才得以实现并不适用于真正嘚空气氛围中使用。

综上现有技术可概括为两类:1)使用量子点结合传统的陶瓷基底得到两端器件的结构作为气体传感器;2)使用量子点结匼微纳工艺制备三端FET器件,并在惰性环境中测试半导体电学性能可见现有技术中并没有用量子点FET用作气体传感(由于薄膜场效应晶体管TFT为場效应晶体管FET中的一种,当然现有技术中也没有量子点薄膜场效应晶体管TFT用作气体传感)国内外尚没有利用量子点材料制备薄膜场效应晶體管并应用于实际空气气氛下的气体传感的先例。

针对现有技术的以上缺陷或改进需求本发明的目的在于提供一种薄膜场效应晶体管型氣体传感器及其制备方法,其中通过对薄膜场效应晶体管型气体传感器其内部组成及结构、相应制备方法的整体工艺及各个步骤的参数(如材料的种类、尺寸大小、沉积工艺以及器件的结构等)进行改进以沉积量子点材料形成的沟道有源层作为气体敏感层,利用栅极偏压的调控综合多参数的变化达到室温高灵敏检测目标气体如NO2、H2S的效果。

为实现上述目的按照本发明的一个方面,提供了一种薄膜场效应晶体管型气体传感器其特征在于,该薄膜场效应晶体管型气体传感器为底栅顶接触式结构的薄膜场效应晶体管或底栅底接触式结构的薄膜场效应晶体管;

其中所述底栅顶接触式结构的薄膜场效应晶体管自下而上包括衬底(2)、栅极绝缘层(3)、沟道有源层(4),在所述沟道有源层(4)上还沉積有源电极(5)和漏电极(6)所述沟道有源层(4)为量子点材料沉积形成的量子点薄膜;所述衬底(2)还引出有栅电极,由此构成薄膜场效应晶体管;

所述底栅底接触式结构的薄膜场效应晶体管自下而上包括衬底(2)、栅极绝缘层(3)在该栅极绝缘层(3)上还沉积有源电极(5)和漏电极(6),沟道有源层(4)覆盖茬所述源电极(5)和所述漏电极(6)的上方所述沟道有源层(4)为量子点材料沉积形成的量子点薄膜;所述衬底(2)还引出有栅电极,由此构成薄膜场效應晶体管

按照本发明的另一方面,提供了一种底栅顶接触式结构的薄膜场效应晶体管的制备方法其特征在于,包括如下步骤:

(1)对带有柵极绝缘层的衬底进行等离子体清洗或者表面改性处理;

(2)将分散在有机溶剂中的量子点材料通过旋涂或者喷涂工艺沉积在所述栅极绝缘层仩形成量子点薄膜作为气体敏感层该量子点薄膜即对应沟道有源层;

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FET,MOSFET)属于电压控制型半导体器件,具有输入电阻高、噪声小、功耗低、动态范围大、易于集成、无二次击穿现象、安全工作范围宽等优点

在一块P型硅片(半导体)衬底(Substrate,也有称为Bulk或Body)上形成两个高掺杂的N+区,分别命名为源(Source)区与漏(Drain)区从中引出的电极分别称为源极(S)与漏极(D)。在P型衬底表面覆盖薄薄的一层SiO2(二氧化硅)作为绝缘层叫栅氧化层或栅绝缘层,再在上面覆盖一层金属(现今广泛使用多晶硅,Poly-Silicon)其引出的电极稱为栅极(Gate,

从结构上可以看出,MOS管是完全对称的因此理论上源极S与漏极D是可以互换使用的。在MOS管中源极为提供载流子的端子,而漏极為接收载流子的端子源和漏的命名也由此而来,N沟通MOS管的源极通常连接至电路的最低电位而P沟通MOS管的源极连接至电路的最高电位(为什么?)

对于单个MOS场效应管有哪些型号,衬底B通常与源极S连接在一起这样两个电极的电位是一致的,这样可以避免体效应引起阈值电壓的漂移(后面会提到)BP1360

BP1360,实际的场效应管有哪些型号通常把衬底电极B与源极电极S做在一起因此,通常我们是看不到衬底电极的由於N区与P型衬底之间存在PN结(也叫做耗尽层),因此上图中已经形成了两个二极管

很明显,左边的那个PN结(二极管)因B极与S极的短接而相當于不存在右侧的二极管则称为寄生二极管,它是由源极S指向漏极D

当对栅极G与源极S施加正向电压VGS时,在正向电场的作用力下N区中的電子(多子)与P型衬底中的电子(少子)均被吸附到栅极下的衬底表面,并与P型衬底中空穴(多子)复合而形成负离子为主的空间电荷区这个空间电荷区把两侧的空间电荷区连接起来,但这个时候的栅-源电压VGS比较小

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原标题:高清动画+原理图!深度解剖4类MOS管底层原理看过都收藏了

绝缘型场效应管有哪些型号的栅极与源极、栅极和漏极之间均采用SiO2绝缘层隔离,因此而得名又因栅极為金属铝,故又称为MOS管它的栅极-源极之间的电阻比结型场效应管有哪些型号大得多,可达1010Ω以上,还因为它比结型场效应管有哪些型号溫度稳定性好、集成化时温度简单而广泛应用于大规模和超大规模集成电路中。

与结型场效应管有哪些型号相同MOS管工作原理动画示意圖也有N沟道和P沟道两类,但每一类又分为增强型和耗尽型两种因此MOS管的四种类型为:N沟道增强型管、N沟道耗尽型管、P沟道增强型管、P沟噵耗尽型管。凡栅极-源极电压UGS为零时漏极电流也为零的管子均属于增强型管凡栅极-源极电压UGS为零时漏极电流不为零的管子均属于耗尽型管。

根据导电方式的不同MOSFET又分增强型、耗尽型。所谓增强型是指:当VGS=0时管子是呈截止状态加上正确的VGS后,多数载流子被吸引到栅极從而“增强”了该区域的载流子,形成导电沟道

N沟道增强型MOSFET基本上是一种左右对称的拓扑结构,它是在P型半导体上生成一层SiO2 薄膜绝缘层然后用光刻工艺扩散两个高掺杂的N型区,从N型区引出电极一个是漏极D,一个是源极S在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为柵极G。

当VGS=0 V时漏源之间相当两个背靠背的二极管,在D、S之间加上电压不会在D、S间形成电流

当栅极加有电压时,若0<VGS<VGS(th)时通过栅极和襯底间形成的电容电场作用,将靠近栅极下方的P型半导体中的多子空穴向下方排斥出现了一薄层负离子的耗尽层;同时将吸引其中的少孓向表层运动,但数量有限不足以形成导电沟道,将漏极和源极沟通所以仍然不足以形成漏极电流ID。

进一步增加VGS当VGS>VGS(th)时( VGS(th)称为开启電压),由于此时的栅极电压已经比较强在靠近栅极下方的P型半导体表层中聚集较多的电子,可以形成沟道将漏极和源极沟通。

如果此时加有漏源电压就可以形成漏极电流ID。在栅极下方形成的导电沟道中的电子因与P型半导体的载流子空穴极性相反,故称为反型层。随著VGS的继续增加,ID将不断增加在VGS=0V时ID=0,只有当VGS>VGS(th)后才会出现漏极电流所以,这种MOS管称为增强型MOS管。

VGS对漏极电流的控制关系可用iD=f(VGS(th))|VDS=const这一曲线描述称为转移特性曲线,MOS管工作原理动画见图1.

转移特性曲线的斜率gm的大小反映了栅源电压对漏极电流的控制作用。gm的量纲为mA/V所以gm也稱为跨导。跨导

MOS管工作原理动画2—54(a)为N沟道增强型MOS管工作原理动画图,其电路符号如图2—54(b)所示它是用一块掺杂浓度较低的P型硅爿作为衬底,利用扩散工艺在衬底上扩散两个高掺杂浓度的N型区(用N+表示)并在此N型区上引出两个欧姆接触电极,分别称为源极(用S表礻)和漏极(用D表示)

在源区、漏区之间的衬底表面覆盖一层二氧化硅(SiO2)绝缘层,在此绝缘层上沉积出金属铝层并引出电极作为栅极(用G表示)从衬底引出一个欧姆接触电极称为衬底电极(用B表示)。

由于栅极与其它电极之间是相互绝缘的所以称它为绝缘栅型场效應管有哪些型号。MOS管工作原理动画图2—54(a)中的L为沟道长度W为沟道宽度。

图2—54所示的MOSFET当栅极G和源极S之间不加任何电压,即UGS=0时,由于漏极囷源极两个N+型区之间隔有P型衬底相当于两个背靠背连接的PN结,它们之间的电阻高达1012W的数量级也就是说D、S之间不具备导电的沟道,所以無论漏、源极之间加何种极性的电压都不会产生漏极电流ID。

当将衬底B与源极S短接在栅极G和源极S之间加正电压,即UGS﹥0时,MOS管工作原理动画圖2—55(a)所示则在栅极与衬底之间产生一个由栅极指向衬底的电场。在这个电场的作用下P衬底表面附近的空穴受到排斥将向下方运动,电子受电场的吸引向衬底表面运动与衬底表面的空穴复合,形成了一层耗尽层

如果进一步提高UGS电压,使UGS达到某一电压UT时P衬底表面層中空穴全部被排斥和耗尽,而自由电子大量地被吸引到表面层由量变到质变,使表面层变成了自由电子为多子的N型层称为“反型层”,MOS管工作原理动画图2—55(b)所示

反型层将漏极D和源极S两个N+型区相连通,构成了漏、源极之间的N型导电沟道把开始形成导电沟道所需嘚UGS值称为阈值电压或开启电压,用UT表示显然,只有UGS﹥UT时才有沟道而且UGS越大,沟道越厚沟道的导通电阻越小,导电能力越强这就是為什么把它称为增强型的缘故。

在UGS﹥UT的条件下如果在漏极D和源极S之间加上正电压UDS,导电沟道就会有电流流通漏极电流由漏区流向源区,因为沟道有一定的电阻所以沿着沟道产生电压降,使沟道各点的电位沿沟道由漏区到源区逐渐减小靠近漏区一端的电压UGD最小,其值為UGD=UGS-UDS,相应的沟道最薄;

靠近源区一端的电压最大等于UGS,相应的沟道最厚。这样就使得沟道厚度不再是均匀的整个沟道呈倾斜状。随着UDS的增大靠近漏区一端的沟道越来越薄。

当UDS增大到某一临界值使UGD≤UT时,漏端的沟道消失只剩下耗尽层,把这种情况称为沟道“预夹断”MOS管工作原理动画图2—56(a)所示。继续增大UDS(即UDS>UGS-UT)夹断点向源极方向移动,MOS管工作原理动画图2—56(b)所示

尽管夹断点在移动,但沟道區(源极S到夹断点)的电压降保持不变仍等于UGS-UT。因此,UDS多余部分电压[UDS-(UGS-UT)]全部降到夹断区上在夹断区内形成较强的电场。这时电子沿溝道从源极流向夹断区当电子到达夹断区边缘时,受夹断区强电场的作用会很快的漂移到漏极。

耗尽型耗尽型是指,当VGS=0时即形成沟噵加上正确的VGS时,能使多数载流子流出沟道因而“耗尽”了载流子,使管子转向截止

耗尽型MOS场效应管有哪些型号,是在制造过程中预先在SiO2绝缘层中掺入大量的正离子,因此在UGS=0时,这些正离子产生的电场也能在P型衬底中“感应”出足够的电子形成N型导电沟道。

当UDS>0時将产生较大的漏极电流ID。如果使UGS<0则它将削弱正离子所形成的电场,使N沟道变窄从而使ID减小。当UGS更负达到某一数值时沟道消失,ID=0使ID=0的UGS我们也称为夹断电压,仍用UP表示UGS

N沟道耗尽型MOSFET的结构与增强型MOSFET结构类似,只有一点不同就是N沟道耗尽型MOSFET在栅极电压uGS=0时,沟道已经存在该N沟道是在制造过程中应用离子注入法预先在衬底的表面,在D、S之间制造的称之为初始沟道。

N沟道耗尽型MOSFET的结构和符号如MOS管工作原理动画1.(a)所示它是在栅极下方的SiO2绝缘层中掺入了大量的金属正离子。所以当VGS=0时这些正离子已经感应出反型层,形成了沟道于昰,只要有漏源电压就有漏极电流存在。当VGS>0时将使ID进一步增加。

VGS<0时随着VGS的减小漏极电流逐渐减小,直至ID=0对应ID=0的VGS称为夹断電压,用符号VGS(off)表示有时也用VP表示。N沟道耗尽型MOSFET的转移特性曲线如图1.(b)所示

图1. N沟道耗尽型MOSFET的结构和转移特性曲线

由于耗尽型MOSFET在uGS=0时,漏源之间的沟道已经存在所以只要加上uDS,就有iD流通。如果增加正向栅压uGS栅极与衬底之间的电场将使沟道中感应更多的电子,沟道变厚沟噵的电导增大。

如果在栅极加负电压(即uGS<0=就会在相对应的衬底表面感应出正电荷,这些正电荷抵消N沟道中的电子从而在衬底表面產生一个耗尽层,使沟道变窄沟道电导减小

当负栅压增大到某一电压Up时耗尽区扩展到整个沟道,沟道完全被夹断(耗尽)这时即使uDS仍存在,也不会产生漏极电流即iD=0。UP称为夹断电压或阈值电压其值通常在–1V–10V之间N沟道耗尽型MOSFET的输出特性曲线和转移特性曲线分别如圖2—60(a)、(b)所示。

在可变电阻区内iD与uDS、uGS的关系仍为

在恒流区,iD与uGS的关系仍满足式(2—81)即

若考虑uDS的影响,iD可近似为

对耗尽型场效應管有哪些型号来说式(2—84)也可表示为

式中,IDSS称为uGS=0时的饱和漏电流其值为

P沟道MOSFET的工作原理与N沟道MOSFET完全相同,只不过导电的载流子不哃供电电压极性不同而已。这如同双极型三极管有NPN型和PNP型一样

指耗尽型MOS夹断电压UGS=UGS(off) 、增强型MOS管开启电压UGS(th)、耗尽型场效应三极管的饱和漏極电流IDSS(UGS=0时所对应的漏极电流)、输入电阻RGS.

gm可以在转移特性曲线上求取,单位是mS(毫西门子)

本文转载自《“KIA半导体”》

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