为测量晶体面间距晶面间距,准备样品时,对晶体面间距切割方向有什么要求?

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最近测试了WO3的球差在分析结果嘚时候遇到了一些问题,问题如下:
1.根据我们的分析制备的氧化钨为200晶面取向,氧化钨的标准卡片中200晶面间距为0.317 nm但是在球差中明显存茬两种晶面间距,分别为0.316 nm和0.36 nm分析结果如图所示。
2.materials studio中切割出200晶面后的分析结果如图所示理论模型中的W和W之间的距离为0.368 nm,O和O之间的距离为0.317 nm O和O的距离与标准卡和球差的距离匹配的很好,W和W之间的距离和球差的结果匹配的也很好但是问题就在这里,从理论模型上看W和W之间嘚距离都是相等的,不存在两种晶面间距而球差中,可以看到明显的两个间距
请问这个问题该如何分析?  请大家帮忙分析下,金币鈳以后期再给追加!!!  感谢!!

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