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相位掩模版法刻制光纤光栅的研究
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光纤光栅 men 2014.3
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用于光纤光栅刻写的相位掩模板有哪些应用？
可用于刻写通信、传感、激光器等领域的各类光纤光栅，上海光学精密机械研究所对相位板的研发国内领先，已经完美应用于各类特种光纤光栅的刻写l 光纤光栅滤波器，增益平坦滤波器2 光纤传感3 激光谐振腔反射镜，激光偏振、纵模、横模等模式选择器4 激光功率/频率稳定的鉴频器5 色散补偿、脉冲压缩等色散管理器
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短周期光纤光栅的相位掩膜法制作介绍
短周期光纤光栅的相位掩膜法制作介绍相位掩膜法 将用电子束曝光刻好的图形掩膜置于探光纤上，相位掩膜具有压制零级，增强一级衍射的功能。紫外光经过掩膜相位调制后衍射到光纤上形成干涉条纹，写入周期为掩膜周期一半的Bragg光栅。这种成栅方法不依赖于人射光波长，只与相位光栅的周期有关，因此，对光源的相干性要求不高，简化了光纤光栅的制造系统。这种方法的缺点是制作掩膜复杂，为使KrF准分子激光光束相位以知间。隔进行调制，掩膜版一维表面间隙结构的振幅周期被选为4π(nilica-1)/(AoλKrF)=π，这里A是表面间隙结构的振幅。这样得到的相位掩膜版可使准分子激光光束通过掩膜后，零级光束小子衍射光的5%，人射光束转向+1和-1级衍射，每级衍射光光强的典型值比总衍射光的35%还多。用低相干光源和相位掩膜版来制作光纤光栅的这种方法非常重要，并且相位掩膜与扫描曝光技术相结合还可以实现光栅耦合截面的控制，来制作特殊结构的光栅。该方法大大简化了光纤光栅的制作过程，是目前写入光栅极有前途的一种方法。
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